背壓增加、保留時(shí)間變化和柱性能損失都是色譜柱入口篩板、色譜柱或固定相表面沉積物的常見癥狀。大多數(shù)情況下，這些問題可以通過使用正確的洗滌程序來克服。 越早使用色譜柱再生程序，您就越有可能恢復(fù)色譜柱的原始性能。

在色譜柱的溶劑入口端收集強(qiáng)吸附物質(zhì)，在許多情況下，洗滌過程中使用反向流動(dòng)是有益的。與人們普遍認(rèn)為的相反，逆流永遠(yuǎn)不會損害填料良好的色譜柱。提到的流動(dòng)方向通常是色譜柱*初填充的方向。請注意，不規(guī)則/無定形原始二氧化硅在逆流時(shí)可能會出現(xiàn)問題，因?yàn)榭赡軙匦聵?gòu)造填充床。 當(dāng)在這些不規(guī)則二氧化硅上反轉(zhuǎn)流動(dòng)時(shí)，應(yīng)始終格外小心。

請檢查我們針對不同固定相（ 建議的再生程序， RP、NP、離子交換等 ） 并在這些程序后執(zhí)行 CoA 色譜柱測試，如果原始壓力恢復(fù)，以評估色譜柱性能/峰對稱性。

清洗和再生程序

如果足夠小心，就可以在很長一段時(shí)間內(nèi)保持柱效和可靠性。 本節(jié)旨在提供有關(guān)有助于延長 HPLC 色譜柱壽命的不同程序的信息。

清潔與再生的區(qū)別

我們通常假設(shè)，分離后，柱或筒中*初存在的所有物質(zhì)都已洗脫。運(yùn)行后，在開始新的分離之前，用2-3柱體積的初始溶劑混合物清洗色譜柱。 但是，如果流動(dòng)相成分的強(qiáng)度不足以在常規(guī)運(yùn)行期間將其洗脫，則一些強(qiáng)烈保留在色譜柱上的雜質(zhì)將在進(jìn)樣口處積聚。 發(fā)生這種情況時(shí)可能會出現(xiàn)一些不可忽視的問題：性能損失、背壓增加、峰拖尾、保留時(shí)間偏移或基線漂移。 為避免這種情況，強(qiáng)烈建議在出現(xiàn)任何這些癥狀之前定期清潔色譜柱。 這個(gè)過程很簡單，不需要修改通常的色譜設(shè)置。 當(dāng)清潔不充分時(shí)，可能需要進(jìn)行更徹底的處理，即再生，以避免丟棄色譜柱。

建議的清潔和再生程序

使用的清潔程序越多，所需的條件就越不嚴(yán)格。 應(yīng)在色譜柱儲存之前或色譜柱似乎堵塞時(shí)執(zhí)行再生程序。 流速通常設(shè)置為低于分離期間的流速（ 通常為 20% 至 50% ）。

色譜柱體積（ 包括填料體積 ），單位為 mL = π x [色譜柱半徑，單位為厘米] 2 x [色譜柱長度，單位為厘米]